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表面处理铜箔的制备方法

2021-07-21 来源:爱站旅游
导读表面处理铜箔的制备方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(21)申请号 CN01800113.0 (22)申请日 2001.01.24

(71)申请人 三井金属鉱业株式会社

地址 日本东京

(10)申请公布号 CN1206888C (43)申请公布日 2005.06.15

(72)发明人 三桥正和;片冈卓;高桥直臣 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公司

代理人 余岚

(51)Int.CI

H05K3/38; C25D7/06;

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

表面处理铜箔的制备方法

(57)摘要

公开了印刷线路板用的表面处理的铜

箔,该铜箔表面经过粗糙化处理和抗腐蚀处理,其中抗腐蚀处理包括在铜箔表面上形成黄铜(锌-铜)电镀层,在所述黄铜电镀层表面上形成电解铬酸盐层;在电解铬酸盐层上吸附硅烷偶联剂层;在使铜箔温度为105-200℃的条件下干燥该铜箔2-6秒钟。该表面处理的铜箔完全发挥了硅烷偶联剂的效果(所述硅烷偶联剂常用于具有黄铜电镀抗腐蚀层

的铜箔),由此即使是宽0.2毫米的铜箔线路,其抗盐酸性也只是10%或更小的下降百分率,还具有优良的耐湿性。 法律状态

法律状态公告日

2002-06-19 2002-07-10 2005-06-15

法律状态信息

实质审查的生效

公开 授权

法律状态

实质审查的生效

公开 授权

权利要求说明书

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说明书

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