专利名称:基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS
成像方法
专利类型:发明专利
发明人:钟华,陈国瑾,刘静,叶宗奇,赵荣华,李世平,王梦圆申请号:CN201910584338.9申请日:20190701公开号:CN110596701A公开日:20191220
摘要:本发明公开一种基于二次椭圆模型的非平飞双站SAR频域FENLCS成像方法:首先进行了距离向预处理,即在距离向应用了线性距离走动矫正、KT变换、一致距离徙动矫正、二次距离压缩。其次,进行了方位空变的残余高阶距离徙动矫正处理。根据距离向预处理结果,本发明提出了二次椭圆模型,用于准确描述等距点接收机斜视角与波束中心斜距的方位空变特性。本发明提出基于二次椭圆模型的改进的FENLCS成像处理方法,实现了残余多普勒中心、多普勒调频率和高次相位系数随方位位置空变的特性的去除,进而完成方位统一聚焦处理。此外,提出了一种频域高次非空变预滤波方法,简化了FENLCS算法的推导过程,提高聚焦质量。
申请人:杭州电子科技大学
地址:310018 浙江省杭州市经济技术开发区白杨街道2号大街1158号
国籍:CN
代理机构:浙江千克知识产权代理有限公司
代理人:周希良
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