专利名称：一种用于二氧化硅颗粒沉积的中央供料装置及方法专利类型：发明专利
发明人：王志勇,张华明,王瑞春,顾立新,刘善沛,罗军,高则尚,
朱方龙,杨轶
申请号：CN201610850541.2申请日：20160926公开号：CN106406214A公开日：20170215
摘要：本发明提出一种用于二氧化硅颗粒沉积的中央供料装置及方法，该装置包括数个原料罐、数个缓冲罐、稳压气罐和压料气罐，数个原料罐上设有补气口和灌料口，补气口通过补气分管与补气主管的一端相连，稳压气罐与补气主管的另一端相连，灌料口通过灌料分管与灌料主管相连，数个缓冲罐上设有进料口、供料口、进气口和排气口，进料口通过进料分管与灌料主管相连，供料口通过供料分管与供料主管的一端相连，另一端与沉积生产线相连，进气口通过进气分管与进气主管的一端相连，另一端与压料气罐相连，排气口通过排气分管与排气主管的一端相连，另一端与主排气口相连。本发明自动化程度高，实现连续作业，效率高。
申请人：长飞光纤光缆股份有限公司
地址：430073 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道9号
国籍：CN
代理机构：湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人：胡建平
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